微弧氧化的基本原理及膜層特性

微弧氧化技術是一種直接在輕金屬表面原位生長陶瓷膜的新技術。其原理是將Al、Mg、Ti等輕金屬或其合金置于電解質水溶液中作為陽極，利用電化學方法在該材料的表面產生火花放電斑點，在熱化學、等離子體化學和電化學的共同作用下，獲得金屬氧化物陶瓷層的一種表面改性技術

微弧氧化的放電狀態：   

微弧氧化技術特點：

 1）氧化膜具有陶瓷結構特征。 

（2）原位生長。

（3）氧化膜均勻增厚。

（4）無污染：無環保限制元素加入，基本無廢水排放。

           制備工藝簡單。

（5）表面硬度高，顯微硬度在400至1500HV； 

（6）耐磨損性能與硬質合金相當；

（7）耐腐蝕性能：鹽霧試驗鋁合金1000－2000小時 ；鎂

         合金經封孔后耐鹽霧可達1000小時以上。

（8）耐熱性能：300℃水中淬火35次未見變化，1300℃

          沖擊5次不脫落、不龜裂。 

（9）絕緣性能：膜厚不同,表面電阻達  109－12Ω

微弧氧化膜層形貌  截面：微弧氧化陶瓷層與基體以冶金型微熔過渡區連接。

 其組織致密無穿孔，且與基體成明顯的微冶金型結合 。此類組織特征大大增強了陶瓷層對基體的防腐蝕保護能力。

表面： 盲孔微區分布 均勻，利于減摩條件下連續油膜的形成，

改善潤滑條件，降低摩擦系數，延長使用壽命。對用于制取防腐保護涂層的產品，此類表面狀態利于進行封孔或噴粉等后續處理，增強其附著力。